특허청 G5 국제공조 강화로 심사기간 단축한다(특허출원)
- 제4회 선진 5개 특허청장회의에서 심사결과 활용 확대 합의 -
- 한-미간 국제특허심사하이웨이 시행 합의 -
6.23(목)∼24(금) 양일간 일본 동경에서 열린 선진 5개 특허청장회의에서 G5 특허청(한·미·일·중·유럽)은 특허심사기간을 단축하기 위하여 국가간 심사결과 활용을 확대하기로 합의하였다.
* 선진 5개 특허청장회의(IP5 특허청장회의) : 세계 특허출원의 76%(2008년)를 차지하는 한국, 미국, 유럽, 일본, 중국 특허청이 참가하는 다자간 회의로 매년 1회 회의를 개최
** 제4회 선진 5개 특허청장회의에는 이수원 특허청장, 베누와 바띠스텔리(Benoît Battistelli) 유럽 특허청장, 요시유키 이와이(Yoshiyuki IWAI) 일본 특허청장, 티안 리푸(TIAN Lipu) 중국 특허청장 및 프란시스 거리(Fransis Gurry) 세계지식재산기구(WIPO) 사무총장, 테레사 레이(Teresa S. Rea) 미국 특허청 차장이 참석
첫날 회의에서 선진 5개 특허청은 각 특허청의 상이한 특허분류, 정보화시스템, 심사실무 등 특허심사에 필수적인 인프라를 통일하고, 특허제도의 국제적 조화(Patent Harmonization)에 관한 협력을 확대하여, 공통으로 사용할 수 있는 심사환경을 구축하기로 합의하였다.
전 세계 출원의 76%를 담당하고 있는 선진 5개 특허청이 서로 공통된 심사환경을 구축하게 되면, 각 특허청의 심사관은 다른 특허청의 심사정보를 쉽고 간편하게 조회할 수 있게 된다. 이로 인해 특허심사기간이 단축될 수 있고, 특허청간 심사결과에 대한 일관성도 높아질 것으로 예상된다.
G5 특허청은 상호 업무협력을 위해 ▲ 공통특허 분류 도입계획 ▲ 특허심사 결과의 교환 및 활용을 위한 정보화 협력 ▲ 심사실무의 조화를 위한 워크숍 개최 및 ▲ 국제적 업무공조 확대 등에 합의하였다.
한국 수석대표로 참가한 이수원 특허청장은 “각 특허청간 불필요한 업무중복을 줄이고 특허심사의 효율성과 품질을 높이기 위한 지식재산 외교를 강화할 계획”이라고 밝히며 “특허제도의 국제적 조화를 위한 노력을 통해 출원인이 신속하고 저렴한 비용으로 해외 특허를 획득하게 될 것”임을 강조했다.
한편 24일(금)에는 이수원 특허청장과 테레사 레이(Teresa Rea) 미국 특허청 차장이 참석한 가운데 국제특허심사하이웨이(PCT-PPH))를 7월 1일부터 시범 실시하기로 합의하는 양해각서를 체결한다.
* 특허심사하이웨이(PPH : Patent Prosecution Highway) : 양국의 공통출원에 대해, 제1국에서 특허가능하다는 심사를 받은 경우, 제2국에서 우선심사해 주는 제도(한국은 미·일·영·캐·독·핀·러·덴 8개국과 시행 중, 스페인과도 7월 1일부터 시행 예정)
** 특허협력조약(PCT : Patent Cooperation Treaty) : 개별 국가에 각각 출원해야 하는 번거로움을 피하기 위해, 국제출원(PCT 출원)을 하게 되면 개별 국가에 출원한 것으로 간주해 주는 특허제도에 관한 협약
*** 국제특허심사하이웨이(PCT-PPH) : PCT 출원의 국제단계에서 특허가능하다는 심사를 받은 경우 우선심사 해주는 제도(PCT-PPH는 미국과 최초 시행)
기존의 특허심사하이웨이(PPH)는 협정을 맺은 상대국에서 특허결정이 나면 출원인에게 빨리 심사받을 수 있도록 우선심사 선택권을 주는 제도로서, 우리나라는 미국, 일본 등 8개국과 활발하게 시행 중이고, 스페인과도 7월 1일부터 시행할 예정이다.
PCT-PPH는 우선심사 선택권을 국제단계에서 긍정적 심사결과를 받은 PCT 출원으로 확대한 제도로서, PCT-PPH를 이용하면 심사처리기간이 1년 이상(18개월→5개월) 단축될 것으로 전망된다. 또한 PCT-PPH도 PPH 출원과 마찬가지로 긍정적인 심사결과를 활용하므로, 일반출원에 비해 특허 등록률이 높을 것으로 기대된다.
* ’10년 PPH를 이용하지 않는 일반출원 등록률 64%, PPH 이용 출원 등록률 87%
이수원 특허청장은 “향후 한-미 PCT-PPH 시행결과를 면밀히 분석하여 우리기업의 진출이 많은 국가와 PCTPPH 시행 확대를 검토할 계획”이며, “G20 시대에 한국은 G5 특허청과의 협력을 통하여 글로벌 지재권 정책형성을 주도함으로써 우리 기업과 출원인에게 더욱 편리하고 효율적인 지재권 제도개선을 추진할 것”이라고 밝혔다.
이번 회의에 참석한 G5 특허청의 청장들과 WIPO 사무총장은 차기선진 5개 특허청장회의를 2012년 유럽에서 열기로 뜻을 모았다.
특허, 디자인, 상표 출원에 대한 궁금한 사항은 집현전국제특허사무소(전화 02-522-8987)으로 문의하시기 바랍니다.
발췌 : 집현전특허사무소(http://www.bco.co.kr/)
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